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关于国产光刻机和光刻胶的一点消息(未证实)

9 月 17, 2023

①上海微电子第一代ArF光刻机(90nm工艺)已经通过验证并批量生产,2020年搬到燕东微电子大生产线,目前已经调试完毕进入生产。

②上海微电子第二代ArF光刻机(65nm工艺)已经通过验证并批量生产,2022年搬到燕东微电子等大生产线,目前正在调试中。

③燕东生产线虽然已使用包括前道光刻机在内的大量国产成套集成电路设备,但还是有部分设备为外购,还达不到整条生产线100%国产。(不过估计也快了)

④上海微电子第一代ArF浸润式光刻机(55nm—28nm工艺)21年6月已经下线(测试机),22年3月商用机下线,目前正在ICRD等产线验证,本着先易后难的原则,目前在验证试生产55nm制程芯片。

⑤华卓精科双工件台用的国产平面光栅位移测量系统搞得差不多了,一旦批产,可极大提高上微浸润式光刻机的稳定性(目前上微光刻机的双工件台用的是激光干涉仪,稳定性相对较差)。

⑥国产ArF光刻胶验证周期很长,南大光电有可能被新阳超过(新阳现有产能为3吨,二期规划产能30吨)。

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